重生之北國(guó)科技 第478章 真假1微米(1)

光電會(huì)議室。

三個(gè)青年人再次聚集在了一起。

雖然青澀的面容，出賣(mài)了他們的真實(shí)年齡，但這幾位可不是一般的年輕人。

自從顧明，右天相繼退出童子軍后，葉靜，一個(gè)女孩子，成了童子軍的實(shí)際領(lǐng)導(dǎo)人。正是這段經(jīng)歷，為她未來(lái)的發(fā)展，打下了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

嚴(yán)亮把更多的精力放到了tftlcd的技術(shù)演化上，如今也有了一絲精英氣質(zhì)。

一系列的儲(chǔ)備技術(shù)，在他的手里慢慢成形，五步光刻技術(shù)，就是他的作品之一。is，ffs等一批專(zhuān)利技術(shù)，為《全彩科技》提供著應(yīng)對(duì)未來(lái)挑戰(zhàn)的底氣。

“《一號(hào)工程》到了啟動(dòng)的時(shí)候。”

上次的零號(hào)工程，遭到了大家的一致反對(duì)，這才導(dǎo)致了《全彩科技》的誕生。否則白學(xué)成公司的名字，應(yīng)改是《零點(diǎn)科技》才對(duì)。

“其實(shí)不用說(shuō)，我們也知道，是不是準(zhǔn)備上晶圓項(xiàng)目了？算起來(lái)也到時(shí)候了啊！”

lcd驅(qū)動(dòng)芯片開(kāi)發(fā)，不是什么保密的事情。集成電路專(zhuān)業(yè)的一幫人，為這個(gè)事情已經(jīng)忙活半年多了。他們不僅僅是忙，更重要的是燒錢(qián)。

eda軟件，一套就要二十幾萬(wàn)美元。雖然教育機(jī)構(gòu)購(gòu)買(mǎi)，有一定的優(yōu)惠，但十幾萬(wàn)美元還是逃不掉的。

這種大規(guī)模集成電路設(shè)計(jì)，肯定不可能由一個(gè)人來(lái)完成。多人協(xié)同工作，就需要多套軟件。項(xiàng)目什么成果還沒(méi)有看到，近千萬(wàn)人民幣就消失了蹤影。

這些錢(qián)，總不能白花吧。

“說(shuō)說(shuō)看，這個(gè)一號(hào)工程要怎么個(gè)搞法。”

這兩名同鄉(xiāng)，隨著公司的成長(zhǎng)，他們的視角也在不斷提高。對(duì)很多問(wèn)題的觀察點(diǎn)，和觀察角度，都與普通人有了明顯不同。站在巨人的肩膀上，指的就是這個(gè)意思。

“我認(rèn)為，還是要一步步來(lái)。我們?cè)诰A產(chǎn)業(yè)上沒(méi)有積累。目前的當(dāng)務(wù)之急，還是追平國(guó)內(nèi)的先進(jìn)的技術(shù)，也就是2微米技術(shù)。”

葉靜首先給出了建議。

1986年，電子工業(yè)部提出了“531”發(fā)展戰(zhàn)略，即普及推廣5微米技術(shù)，開(kāi)發(fā)3微米技術(shù)，攻關(guān)1微米技術(shù)。

時(shí)間已經(jīng)整整過(guò)去了6年，除了一微米這個(gè)目標(biāo)沒(méi)有達(dá)到以外，其它兩個(gè)已經(jīng)差不多完成。15微米的分步投影光刻機(jī)，于1985年就已經(jīng)研制成功。這也是后續(xù)的908工程，提出進(jìn)軍1微米的基礎(chǔ)。

在這個(gè)時(shí)間點(diǎn)，國(guó)內(nèi)的晶圓廠(chǎng)，已經(jīng)有不少采用45英寸晶圓，23微米的技術(shù)。

這些前輩們的心血沒(méi)有白費(fèi)，它給光電帶來(lái)了足夠高的as。

當(dāng)然了，這幾年，國(guó)際上的半導(dǎo)體工藝，進(jìn)步也沒(méi)有停止。最新建成的幾座晶圓廠(chǎng)，已經(jīng)進(jìn)步到05微米了。

“這個(gè)觀點(diǎn)，我不同意，我們上項(xiàng)目的目的是什么？如果最終目的達(dá)不到，花這么多錢(qián)，去建一條沒(méi)有用的晶圓廠(chǎng)，有什么意義呢？

要上，我們就要上最先進(jìn)的，直接上035微米！”

隨著不斷的成功，嚴(yán)亮的野心也在不斷滋長(zhǎng)。尤其是他手里掌握的幾個(gè)儲(chǔ)備技術(shù)，讓他有了更大的進(jìn)取心。

在他眼里，國(guó)際上所謂的電子巨頭，也就是那么回事。他們除了有點(diǎn)臭錢(qián)以外，還有什么？冢中枯骨而已。

led事業(yè)，光電的as很高，一出手就是世界第一。

tftlcd雖然差點(diǎn)，但是至少也是第一波。如果晶圓變成了跟著別人屁股后面轉(zhuǎn)，這不是有損自己的光輝形象嘛！

“035微米？你說(shuō)話(huà)過(guò)腦子沒(méi)有技術(shù)來(lái)源在哪里？你知道建一條035微米的晶圓廠(chǎng)要多少錢(qián)嗎？”

隨著晶圓工藝進(jìn)程的逐步提高，晶圓廠(chǎng)的造價(jià)也在逐步提高。這也是908只要20個(gè)億，而909則上升到了100個(gè)億的主要原因。

兩者之間的核心區(qū)別在與，908的工藝是09微米，909則是05微米。

035微米的晶圓廠(chǎng)的造價(jià)，在國(guó)際上，已經(jīng)上升到10億美元級(jí)別了。（035微米，在國(guó)際上的批量的普及，是在95年之后的事情，entiuro就是世界上第一批采用此工藝（854），第一批量產(chǎn)的芯片。）

當(dāng)然，這里還有些其他區(qū)別，例如產(chǎn)量，晶圓尺寸等。

如果晶圓工藝這么容易的話(huà)，那個(gè)破光刻機(jī)也就沒(méi)有必要牽動(dòng)這么多人的心了。

兩個(gè)人很快就自己吵了起來(lái)。

“永興，你是啥意見(jiàn)？你不是把我倆叫來(lái)，看吵架的吧。”

“你們說(shuō)的都對(duì)，又都不對(duì)。”

“怎么講？”

“晶圓廠(chǎng)要上，但也要考慮現(xiàn)實(shí)情況，空喊口號(hào)是沒(méi)有用的。我們畢竟沒(méi)有積累。

但同時(shí)，我們的目標(biāo)也要實(shí)現(xiàn)，錢(qián)不能白花！如果只是上2微米的晶圓廠(chǎng)，根本沒(méi)有意義。”

“咦？你這是啥意思？?jī)擅娴脑?huà)都讓你說(shuō)全了！”

兩位老鄉(xiāng)同學(xué)，都覺(jué)得自己的耳朵出了問(wèn)題。

“這次我準(zhǔn)備，用2微米的半導(dǎo)體設(shè)備及工藝，來(lái)生產(chǎn)1微米的芯片！”

“這怎么可能？”

“我就知道你腦袋里肯定有東西。”

兩個(gè)不同性格的人，在沉思片刻后，發(fā)出了完全不同的感嘆。

“你不是在開(kāi)玩笑吧。如果真有這種技術(shù)，為什么全球這么多企業(yè)每年投入這么金錢(qián)，去改進(jìn)他們的工藝流程，提高生產(chǎn)設(shè)備的精度？908工程是在干什么？”

葉靜生性比較保守，看事情更多的是看風(fēng)險(xiǎn)。

“這個(gè)技術(shù)是有的。這也是為什么這個(gè)工程被叫做一號(hào)工程的緣故。它的保密級(jí)別甚至高于液晶的odf工藝。”

“好吧，你說(shuō)吧。我們準(zhǔn)備好了。”

這已經(jīng)不是第一次了，成永興召集兩人商量一些高度機(jī)密性的科技信息。

經(jīng)過(guò)s，led，以及l(fā)cd的不斷洗禮，兩個(gè)人對(duì)晶圓工藝已經(jīng)不陌生了。

在后世，人們一提起半導(dǎo)體設(shè)備，被津津樂(lè)道的，就是光刻機(jī)。大家普遍認(rèn)為，光刻機(jī)是中國(guó)在半導(dǎo)體工藝上落后的唯一瓶頸。

這句話(huà)對(duì)，也不對(duì)。

對(duì)，是因?yàn)椋袊?guó)在半導(dǎo)體工藝領(lǐng)域，被甩得最遠(yuǎn)的代表設(shè)備就是光刻機(jī)。

其他設(shè)備，例如蝕刻設(shè)備等，它們與國(guó)際先進(jìn)水平，即使有些差距，差距也沒(méi)有這么大，甚至某些設(shè)備，國(guó)產(chǎn)設(shè)備已經(jīng)開(kāi)始反攻國(guó)際市場(chǎng)。

光刻機(jī)決定半導(dǎo)體制程的情況，僅僅是出現(xiàn)在2005年之后。這就是地球人都知道的，asl的天王山之戰(zhàn)。

asl在浸入式光刻機(jī)上，打了場(chǎng)翻身仗，一舉把日本的幾家競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手掀翻在地，從而奠定了在光刻機(jī)市場(chǎng)的壟斷地位。

但實(shí)際上，在2005年的前后，決定半導(dǎo)體芯片制程的幾個(gè)核心技術(shù)，都不是光刻機(jī)。因?yàn)榇藭r(shí)，光波的波長(zhǎng)，還沒(méi)有撞到極限（193n）

中國(guó)已經(jīng)有了15微米的光刻機(jī)，但是其他輔助工藝，達(dá)不到這么高的精度。

幾十年來(lái)，對(duì)光刻設(shè)備的要求主要基于摩爾定律，通過(guò)減小波長(zhǎng)和增大數(shù)值孔徑（na）來(lái)獲得更高分辨率。

但是激光的可用波長(zhǎng)就那么幾個(gè)，激光波長(zhǎng)減少幾次，就無(wú)以為繼了。

2004年開(kāi)始，光刻機(jī)就開(kāi)始使用193n波長(zhǎng)的duv激光，誰(shuí)也沒(méi)想到，光刻光源被卡在193n無(wú)法進(jìn)步長(zhǎng)達(dá)十幾年。

哪怕采用了沉浸式光刻機(jī)，也僅僅是使晶圓工藝成功突破了幾個(gè)節(jié)點(diǎn)。

過(guò)了一段時(shí)間，半導(dǎo)體工藝的工藝演進(jìn)路線(xiàn)，再次遇到了類(lèi)似的問(wèn)題。后世的14n，10n，的技術(shù)突破。都不是通過(guò)升級(jí)光刻機(jī)來(lái)實(shí)現(xiàn)的。

在光刻機(jī)無(wú)法升級(jí)的情況下，為了突破這個(gè)障礙，人們開(kāi)始尋找別的突圍方向。